路芯半导体掩膜版生产项目最新进展！
● 2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛将于12月27日在苏州召开
● 华润微、上海光源、徐州博康、冠石科技、国科天骥、欣奕华、润晶科技、长飞石英、Linx Consulting、晶测芯材等领衔作报告
12月17日江苏路芯半导体技术有限公司，掩膜版生产项目迎来重要进展，首批工艺设备机台成功搬入。
路芯半导体自2023年成立以来，专注于半导体掩膜版的研发与生产，掌握130nm至28nm制程技术，服务高性能计算、人工智能、通信等领域，已成为推动苏州高端制造业发展的重要力量。公司坐落于高贸区胜浦路西侧、同胜路北侧的掩膜版生产项目，占地74亩，总建筑面积超过4万平方米，预计年产35,000片半导体掩膜版。
自2024年3月12日正式启动以来，路芯半导体掩膜版生产项目快速推进，今天迎来首批工艺设备机台顺利搬入的重要里程碑。作为推动苏州工业园区产业链完善与升级的重要力量，项目自年初“拿地即开工”以来，保持高标准、高质量、高效率推进，25天完成桩基工程，80天完成厂房主体结构封顶。
随着项目的顺利推进，路芯半导体将进一步推动苏州在全球半导体产业链中的重要地位，为地方经济持续发展和高端制造业创新贡献力量。
来源:官方媒体/网络新闻
2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛将于2024年12月27日在苏州举行，由亚化咨询主办。此次会议将汇聚半导体行业的领军企业、技术专家、学者和行业分析师，聚焦光掩模版及光刻胶在中国乃至全球半导体产业链中的关键作用，共同探讨掩模版及光刻胶产业的发展前景、最新技术进展、面临的挑战和未来趋势。
演讲报告
半导体掩膜产业现状及发展展望
——华润微电子
光刻胶在EUV技术中的应用与发展趋势
——中科院上海高研院/上海光源
全球光刻材料市场分析
——Linx Consulting
高分辨光刻胶的研发和产业化
——国科大/国科天骥公司
安捷伦液相色谱质谱技术助力光刻胶的质控和研究
——安捷伦科技有限公司
晶圆制造用CMP抛光液的硅溶胶简介
——甬江实验室
光掩膜版和光阻液中的颗粒物测试
——卫利国际科贸（上海）有限公司
光掩膜版市场与项目发展
——南京冠石科技股份有限公司
光刻掩膜版制造与测试技术进展与发展
——苏州晶测芯材技术有限公司
半导体光刻胶技术探讨及欣奕华进展
——阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司
纳米压印光刻胶开发进展
——徐州博康信息化学品有限公司
光刻胶及抗反射底涂层材料研究
——北京师范大学化学学院
光刻胶配套试剂应用及挑战
——镇江润晶高纯化工科技股份有限公司
用于半导体光刻、量测及掩膜的国产化高端石英材料的开发与应用进展
——长飞石英技术
DUV光刻胶单体的选择及要求
——江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司
如果您有意向参会/赞助/报告
敬请联系：朱经理17717602095 (微信同号）
（转自：半导体前沿）